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데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 1
데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 2
데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 1
데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 2

데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제

지알레데 YBS-7200 하이드로플루오로에테르(화학적으로는 노나플루오로이소부틸 에틸 에테르(C4F9OC2H5)로 알려짐)는 무색, 무취의 액체로, 뛰어난 유동성과 탁월한 순도를 특징으로 합니다.

뛰어난 열적 및 화학적 안정성과 탁월한 환경 안전성 및 불연성 덕분에 전자, 전력, 항공우주, 자동차 및 화학 제조를 포함한 다양한 분야에서 널리 사용되고 있습니다.

또한, 갈라데 YBS-7200은 오존 파괴 지수(ODP)가 0이며, HFC 및 PFC와 비교했을 때 지구 온난화 지수(GWP)가 매우 낮아 환경 지속 가능성에 전념하는 미래지향적인 기업에게 이상적인 장기 솔루션을 제공합니다.

5.0
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    성능 특성

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 3 탁월한 유전 절연 특성.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 4 낮은 표면장력과 높은 습윤성.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 5 빠른 증발 및 잔류물 없는 건조.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 6  불연성이며 열적으로 안정적입니다.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 7  높은 화학적 안정성과 재료 호환성.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 8  효율적인 열 전달 성능.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 9  정밀 세척 및 침지 냉각 용도에 적합합니다.

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    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 11 독성이 낮고 냄새가 적습니다.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 12 엄선된 등급은 지구 온난화 지수(GWP)가 낮습니다.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 13 기존 불소계 용액을 대체하는 환경 친화적인 대안입니다.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 14 민감한 전자 부품 및 반도체 부품과 호환됩니다.

    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 15 공정 유연성을 위해 다양한 끓는점과 점도 범위로 제공됩니다.

    성능 특성

    속성 단위YBS-7200 속성 단위YBS-7200
    비등점 ℃ 76 절대 점도 cP 0.58
    유동점 ℃ -138 비열 J/kg-K 1220
    분자량 G/몰 264 표면 장력 밀리뉴턴/미터 13.6
    임계 온도 ℃ 210 유체 내 물의 용해도 중량 기준 ppm 92
    임계 압력 엠파 2.01 물에 대한 유체의 용해도 중량 기준 ppm 또는 ppb 15ppm 미만
    증기압 kPa 16 절연 강도 범위, 0.1 gaP kV 25세 이상
    기화열KJ/KG 119 1kHz에서의 유전 상수 - 7.3
    액체 밀도 킬로줄/m3 1420 체적 저항 옴-cm 108
    팽창 계수K-3 0.0016 지구 온난화 잠재력 GWP 57
    동점성 cSt 0.41

    적용 및 포장 사양

    1
    고급 세척제로 사용됩니다.
    반도체 에칭 캐비티 및 부품 세척, 불소 잔류물 제거, FOUP(전면 개방형 표준 웨이퍼)(박스) 세척, 정밀 전자 부품의 미립자 불순물 제거, LCD/OLED 디스플레이, 광학 부품 및 렌즈 세척, 자동차 엔진 부품 세척, 통신 장비, 항공기 엔진 및 산소 파이프라인 장비 세척, 의료 장비 및 고급 칩 세척 등에 사용할 수 있습니다.
    2
    불소계 용매로 사용됨
    전자 코팅 및 스크린 코팅의 희석제, 불소화 오일, 불소화 수지 및 불소화 코팅 희석제, 반응 용매, 분석 용도, 추출 용매 등으로 사용할 수 있습니다.
    3
    냉매로 사용됨
    이 물질은 데이터 센터의 침지형 냉매, 전력 장치용 침지형 냉매, 건식 식각 장비, 포토리소그래피 장비, 이온 분사 장비, 프로브 및 정보 처리 장비의 온도 제어 냉매로 사용될 수 있습니다. 또한 식품 산업, 동결 건조, 고무 및 플라스틱의 동결 및 분쇄, 화학 및 제약 산업의 냉각 장비에도 사용될 수 있습니다.

     맞춤형 YBS-8030 속건성 건식 필름 윤활제 제조업체 YBS 6 본 제품은 1kg, 5kg, 25kg, 200kg 드럼 포장으로 공급됩니다.

     반도체 에칭 캐비티 및 부품을 깨끗하게 세척합니다.
    반도체 에칭 캐비티 및 부품을 깨끗하게 세척합니다.
     깨끗한
    깨끗한... FOUP(전면 개방형 표준 웨이퍼)(상자)
     LCD OLED 디스플레이 청소 拷贝
    LCD/OLED 디스플레이 청소
    광학 부품 및 렌즈
    광학 부품 및 렌즈
     정밀전자부품 拷贝
    정밀 전자 부품
    엔진 부품 세척 拷贝
    세척 엔진 부품
    식품 산업용 냉각 장비
    식품 산업용 냉각 장비
     건식 에칭 장비
    건식 에칭 장비
     전력 장치용 침지형 냉매
    전력 장치용 침지형 냉매
     데이터센터용 침지형 냉매
    데이터센터용 침지형 냉매
    데이터센터용 HFE Fluid Novec™ 7200과 동등한 열전달 첨가제 27
    작동 시 주의사항
    ■ 환기가 잘 되는 곳에서 사용하십시오.
    ■ 눈에 닿지 않도록 하고 피부에 장시간 노출시키지 마십시오.
    ■ 사용하지 않을 때는 용기를 꼭 닫아 두십시오.
    ■ 다른 화학 물질과 혼합하지 마십시오.
    ■ 서늘하고 건조하며 직사광선을 피해 보관하십시오.
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    사용 방법
    ■ 침지, 분무 또는 초음파 세척 방식으로 적용하십시오.
    ■ 세척할 부품과 완전히 접촉되도록 하십시오.
    ■ 세척 후 자연 건조시키십시오. 헹굴 필요가 없습니다.
    ■ 냉각용으로는 밀폐된 시스템에 사용하고 밀봉 상태를 유지하십시오.
    귀하의 요구사항에 대해 논의해 봅시다 .
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