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用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 1
用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 2
用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 1
用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 2

用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。

YBS-7300 氫氟醚,化學名稱為 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-4-(三氟甲基)戊烷,是一種流動性好、無色無味的液體,且潔淨。

由於其優異的熱穩定性和化學穩定性,以及良好的環境安全性和不易燃性,它被廣泛應用於電子、電力、航空航太、汽車和化學工業。

此外,嘉樂德YBS-7300的臭氧消耗潛值(ODP)為零,與HFC和PFC相比,其極低的溫室效應為倡導綠色環境保護的先進企業提供了理想的長期解決方案。

5.0
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    性能特徵

    元素純度CAS編號包裹
    1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-4-(三氟甲基)戊烷100%132182-92-4 5公斤/25公斤塑膠鋼桶

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 3 優異的介電絕緣性能。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 4 表面張力低,潤濕性高。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 5 快速蒸發,無殘留乾燥。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 6 不易燃且熱穩定性好。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 7 化學穩定性高,材料相容性好。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 8 高效率的傳熱性能。

    未標題-5 拷貝2 (5)

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 10 適用於精密清洗和浸沒式冷卻應用。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 11 低毒性和低氣味特性。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 12 部分等級的產品具有較低的全球暖化潛勢值(GWP)。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 13 與傳統含氟液體相比,這是一種更環保的替代品。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 14 與敏感電子元件和半導體元件相容。

    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 15 提供多種沸點和黏度規格,以滿足不同的製程需求。

    性能特徵

    房產單元YBS-7300房產單元YBS-7300
    沸點98絕對黏度cP1.18
    傾點-38具體來說,他在J/kg-K1140
    分子量克/摩爾350表面張力離子mN/m15.0
    臨界溫度243水在流體中的溶解度按重量計,ppm67
    臨床壓力百萬1.88Fluld在水中的溶解度按重量計,PP或ppb <295 ppm
    蒸氣壓千帕5.9介電強度範圍,0.1 gaP千伏>25
    汽化熱KJ/KG102 1kHz時的介電常數-6.1
    液體密度千焦/立方米1660體積電阻率歐姆-厘米10 11
    擴張係數K-30.0013全球暖化潛勢Gwp310
    運動黏度cSt0.71

    應用和包裝規格

    1
    用作高端清潔劑
    它可用於清潔半導體蝕刻腔和元件;去除氟殘留沉積物;以及清潔…FOUP(正面開口標準晶圓)(盒裝);清潔精密電子元件上的顆粒雜質;清潔液晶/OLED顯示器、光學元件和透鏡;清洗汽車發動機部件;清潔通信設備、飛機發動機和氧氣管道設備;清潔設備和高端晶片等。
    2
    用作氟化溶劑
    它可以用作電子塗料和螢幕塗料的稀釋劑;氟化油、氟化樹脂和氟化塗料的稀釋劑;反應溶劑;以及用於分析用途。萃取溶劑等。
    3
    用作冷媒
    它可以用作資料中心的浸沒式冷媒;電力設備的浸沒式冷媒;乾蝕刻設備、光刻設備、離子噴射設備、探針和資訊處理設備的溫度控製冷媒;乾式蝕刻設備、光刻設備、離子噴射設備、探針和資訊處理設備的溫度控製冷媒;它還可以用於食品工業的冷卻設備、冷凍乾燥、橡膠和塑膠的冷凍和破碎,以及化學和製藥業的冷卻設備。

    客製化YBS-8030速乾乾膜潤滑劑製造商YBS 6 本產品以 1KG、5KG、25KG、200KG 桶裝形式供應。

    清潔半導體蝕刻腔和元件
    清潔半導體蝕刻腔和元件
    乾淨的
    清潔…FOUP(正面開口標準晶圓)(盒裝)
    清潔 LCD OLED 顯示器拷貝
    清潔液晶/OLED顯示屏
    光學元件和透鏡 拷貝
    光學元件和透鏡
    精密電子元件影印
    精密電子元件
    洗滌引擎部分複製品
    清洗引擎部件
    食品業的冷卻設備
    食品業的冷卻設備
    乾蝕刻設備
    乾蝕刻設備
    電力設備用浸沒式冷媒
    電力設備用浸沒式冷媒
    資料中心浸沒式冷媒
    資料中心浸沒式冷媒
    用於半導體加工的浸沒式冷卻,其性能相當於工程流體 Novec™ 7300。 27
    操作注意事項
    請在通風良好的地方使用。
    避免接觸眼睛和長時間接觸皮膚。
    不使用時,請將容器蓋緊。
    請勿與其他化學品混合使用。
    請置於陰涼乾燥處,避免陽光直射。
    2 副本
    如何使用
    可採用浸泡、噴灑或超音波清洗方式清洗。
    確保與待清洗零件充分接觸。
    清洗後自然蒸發即可,無需沖洗。
    用於冷卻時,請在封閉系統中使用並保持密封。
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